现行基准： 著作权法（2020年修正）、商标法（2019年修正）、专利法（2020年修正）

集成电路布图设计保护

最后更新：2026-04-06 | 由 LLM 基于知识库原始资料编译
关联概念：专利侵权 | 商业秘密侵权

核心法条

《集成电路布图设计保护条例》（国务院令第300号）：布图设计专有权的专门立法 [现行有效，2001年10月1日施行] [现行有效]
《专利法》第25条：对平面印刷品的图案色彩设计不授予专利权（集成电路可走布图设计专门法） [现行有效]
《集成电路布图设计保护条例实施细则》：登记程序的具体规则 [现行有效]

规则沿革

时间节点	旧规则	新规则	依据来源
2001-04-02	无集成电路布图设计专门法	《集成电路布图设计保护条例》公布	国务院令第300号
2001-10-01	—	条例正式施行，建立布图设计专有权制度	—

一、布图设计保护的法律基础

概念界定（条例第2条）

集成电路布图设计：指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。

集成电路：指半导体集成电路或以其他材料制作的集成电路。

为何需要专门立法

专利法和商标法无法充分保护集成电路布图设计：
- 布图设计的保护客体既非发明创造，也非外观设计
- 集成电路的三维配置和功能性特征与专利审查标准不匹配
- 《专利法》明确将平面印刷品的图案色彩设计排除在专利权之外
- 国际条约要求（TRIPS第35-38条、IPIC条约）

二、布图设计专有权的取得

登记制

布图设计专有权通过向国家知识产权局登记取得，而非专利的审查授权制。

登记条件

独创性：该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计并非公认常规设计
商业利用时间：自布图设计在世界上任何地方首次商业利用之日起2年内提出登记申请
创作时间：自布图设计创作之日起15年内的，予以保护

申请主体

中国自然人、法人或非法人组织
外国人/企业：依照所属国与中国签订的协议或共同参加的国际条约，或按互惠原则

登记手续

向国家知识产权局提交：
- 布图设计登记申请表
- 布图设计的复制件或图样（必要时提交样品）
- 已投入商业利用的，提交含有布图设计的集成电路样品

三、布图设计专有权的内容

专有权的范围（条例第7条）

未经布图设计权利人许可，他人不得：
1. 复制受保护的布图设计的全部或其中任何具有独创性的部分
2. 商业利用受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或含有该集成电路的物品

保护期限

保护期：10年，自登记申请之日起或在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准
创作完成后15年内未登记或未投入商业利用的，不再保护

四、权利限制

合法行为（条例第17条）

以下行为不构成侵权：
1. 个人使用：为个人目的或单纯为评价、分析、研究或教学的目的
2. 反向工程：在对他人受保护的布图设计进行分析和评价的基础上，创作出具有独创性的布图设计
3. 权利用尽：对自己独立创作创作的相同布图设计
4. 善意使用：获得受保护布图设计时不知道且无合理理由知道该布图设计是非法复制的，在收到通知前已经实施的行为
5. 权利穷竭：经权利人许可投入市场的布图设计，后续的进口、销售

五、侵权与法律责任

侵权行为

未经许可，复制受保护的布图设计或商业利用受保护的布图设计及其制品。

救济途径

行政救济：请求知识产权管理部门责令停止侵权
民事救济：向人民法院提起侵权诉讼
赔偿标准：参照专利侵权的赔偿计算方法

善意使用者的责任免除

善意获得侵权布图设计的人在收到通知前已实施的，不承担赔偿责任，但收到通知后可继续处置其库存。

六、与专利保护的关系

并行保护

集成电路的结构或制造方法仍可申请发明专利，而布图设计的三维配置则通过专门法保护。两者并行不悖。

区别对比

对比维度	专利保护	布图设计保护
保护客体	技术方案（发明/实用新型）	三维配置
取得方式	审查授权制	登记制
保护期限	发明20年/实用新型10年	10年
独创性要求	新颖性+创造性+实用性	独创性（非常规性）

实务建议

集成电路企业应同时将可专利的技术特征申请专利保护，将三维配置申请布图设计登记
布图设计登记程序较专利审查更为简便快捷，适合集成电路产品快速迭代的行业特点
反向工程合法性的边界是"创作出具有独创性的布图设计"，简单复制改头换面不构成合法反向工程
集成电路行业从业人员应注意避免侵权，善意使用者在收到权利通知后应及时停止使用

知识库原始资料索引

法条

专利法 — 第25条排除范围
专利法实施细则（2023年修订）

审判指导

最高人民法院《关于充分发挥知识产权审判职能作用的意见》
宁波中院知识产权审判若干疑难问题解答（二）